Highly oriented crystalline si on epitaxial Gd2O3/Si(111) substrate using low-cost Radio Frequency sputtering for Silicon on Insulator application

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标题	Highly oriented crystalline si on epitaxial Gd2O3/Si(111) substrate using low-cost Radio Frequency sputtering for Silicon on Insulator application 使用低成本射频溅射在外延Gd2O3/Si（111）衬底上的高取向晶体硅用于绝缘体上硅的应用
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2024.140272
DOI	10.1016/j.tsf.2024.140272 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Shubham Patil; Sandeep Kumar; Adityanarayan H Pandey; Swagata Bhunia; Bhaveshkumar Kamaliya; et al 出版日期：2024
求助人	赌书泼茶在 2025-08-29 11:39:55 发布，悬赏 10 积分
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