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 Effect of Sputtering Pressure on the Properties of Large Area IWO Thin Films Deposited by Direct Current Magnetron Sputtering 溅射压力对直流磁控溅射大面积IWO薄膜性能的影响
相关领域
溅射
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期刊：Current Applied Physics 作者：Tianyu Yu; Yunlei Jiang; Suxia Liang; Zhiguo Zhao; Sheng Zou; et al 出版日期：2024-05-08 |
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