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 An Empirical Investigation on the Effect of Oxygen Vacancy in ZrO2 Thin Film on the Frequency-Dependent Capacitance Degradation in the Metal–Insulator–Metal Capacitor ZrO2薄膜中氧空位对金属-绝缘体-金属电容器中频率相关电容退化影响的实验研究
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期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Dong Hee Han; Seung‐Woo Lee; Ji Hyeon Hwang; Youngjin Kim; M. Bonvalot; et al 出版日期：2021-09-14 |
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