Reliability of HfO 2 -based Ferroelectric Thin Films and Field-effect Transistors

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标题	Reliability of HfO 2 -based Ferroelectric Thin Films and Field-effect Transistors 相关领域材料科学可靠性（半导体）光电子学铁电性晶体管薄膜场效应晶体管电子工程电介质薄膜晶体管电气工程
网址	https://doi.org/10.1002/9783527844869.ch10
DOI	暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？ AI识别 10.1002/9783527844869.ch10 doi
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