Two-metal-level semi-damascene interconnect at metal pitch 18 nm and aspect-ratio 6 routed using fully self-aligned via

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标题	Two-metal-level semi-damascene interconnect at metal pitch 18 nm and aspect-ratio 6 routed using fully self-aligned via
网址	http://dx.doi.org/10.1109/iedm45741.2023.10413784
DOI	10.1109/iedm45741.2023.10413784 doi
其它	期刊：2023 International Electron Devices Meeting (IEDM) 作者：Anshul Gupta; Giulio Marti; Gilles Delie; Souvik Kundu; Stefan Decoster; et al 出版日期：2023-12-09
求助人	ADChem_JH 在 2026-08-09 13:45:05 发布自上海，悬赏 10 积分
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