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![]() 蚀刻和沉积协同优化:实现高纵横比3D NAND闪存ONON沟道空穴图案化的途径
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作者:Meihua Shen; John Hoang; Hao Chi; Danna Qian; George D. Papasouliotis; et al 出版日期:2021-02-19 |
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