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Achieving Ferroelectricity in a Centrosymmetric High‐Performance Semiconductor by Strain Engineering
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网址
https://doi.org/10.1002/adma.202300450
AI链接 nih.gov arxiv.org arxiv.orgdoi.org
DOI
10.1002/adma.202300450 doi
其它 期刊：Advanced Materials
作者：Mengqi Wu; Zhefeng Lou; Chen‐Min Dai; Tao Wang; Jiaqi Wang; et al
出版日期：2023-03-03
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11 在 2025-11-13 16:17:49 发布自北京，悬赏 10 积分
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