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Mechanistic Insights into Acid Generation from Nonionic Photoacid Generators for Extreme Ultraviolet and Electron Beam Lithography
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极紫外光刻 离解（化学） 化学 光刻胶 光化学 键裂 极端紫外线 极性效应 纳米技术 材料科学 有机化学 催化作用 光学 激光器 物理 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1021/acs.jpca.5c05089
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1021/acs.jpca.5c05089 doi
其它 期刊：The Journal of Physical Chemistry A
作者：Chengbin Fu; Jie Xue; Hanshen Xin; Jianhua Zhang; Haoyuan Li
出版日期：2025-09-25
求助人
在人类 在 2025-10-24 10:15:12 发布自河北，悬赏 10 积分
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