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标题
Inductively coupled plasma etching of silicon carbide: a review
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网址
DOI
10.1007/s10854-025-16312-7 doi
其它 期刊:Journal of Materials Science: Materials in Electronics
作者:Dengwen Yuan; Yu Zhong; Kuan Yew Cheong; Lan Luo; Tianlu Wang; et al
出版日期:2025
求助人
卜恸卜恸 在 2026-03-20 10:17:39 发布自浙江,悬赏 10 积分
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