Inductively coupled plasma etching of silicon carbide: a review

材料科学 蚀刻(微加工) 感应耦合等离子体 碳化硅 燃烧室压力 干法蚀刻 光电子学 制作 各向同性腐蚀 反应离子刻蚀 等离子体刻蚀 等离子体 半导体器件制造 半导体 过程(计算) 纳米技术 等离子体处理 体积热力学 表面微加工 混合硅激光器 微电子机械系统 半导体器件 模具(集成电路) 宽禁带半导体 表面改性 过程变量
作者
Dengwen Yuan,Yu Zhong,Kuan Yew Cheong,Lan Luo,Tianlu Wang,Jisheng Han,Xiangang Xu
出处
期刊:Journal of Materials Science: Materials in Electronics [Springer Science+Business Media]
卷期号:36 (36)
标识
DOI:10.1007/s10854-025-16312-7
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