Analytic study of apparent resist sensitivity in electron-beam lithography

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标题	Analytic study of apparent resist sensitivity in electron-beam lithography
网址	https://pubs.aip.org/avs/jvb/article-pdf/doi/10.1116/6.00049...
DOI	10.1116/6.0004963 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B 作者：Soo-Young Lee 出版日期：2025-11-18
求助人	louis 在 2026-05-10 17:24:12 发布自福建，悬赏 10 积分
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