| 标题 |
 Development of fluoro-free surfactant rinse solutions for EUV photoresists 相关领域
光刻胶
极紫外光刻
肺表面活性物质
表面张力
肿胀 的
抵抗
材料科学
聚合物
光刻
接触角
溶解度
复合材料
纳米技术
化学工程
化学
有机化学
工程类
物理
量子力学
图层（电子）
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期刊： 作者：Pen-Nan Liao; Bryan E. Barton; P. H. Hsu 出版日期：2021-09-28 |
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(2025-6-4)
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