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 Chemical reaction on silicon carbide wafer (0 0 0 1 and 0 0 0 −1) with water molecules in nanoscale polishing 水分子在碳化硅晶片（0 0 0 1和0 0 0−1）纳米抛光中的化学反应
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抛光
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期刊：Applied Surface Science 作者：Zige Tian; Jing Lu; Qiufa Luo; Xipeng Xu 出版日期：2023-01-01 |
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