Influence of hydrogen gas flow ratio on the properties of silicon- and nitrogen-doped diamond-like carbon films by plasma-enhanced chemical vapor deposition

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标题	Influence of hydrogen gas flow ratio on the properties of silicon- and nitrogen-doped diamond-like carbon films by plasma-enhanced chemical vapor deposition
网址	https://doi.org/10.1016/j.diamond.2022.108878
DOI	10.1016/j.diamond.2022.108878 doi
其它	期刊：Diamond and Related Materials 作者：Yuya Sasaki; Hiroya Osanai; Yusuke Ohtani; Yuta Murono; Masayoshi Satō; et al 出版日期：2022-01-31
求助人	shawn 在 2026-10-27 15:55:59 发布自广东，悬赏 10 积分
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