EUV photolithography: resist progress in metal–organic complex photoresists

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标题	EUV photolithography: resist progress in metal–organic complex photoresists
网址	http://dx.doi.org/10.1117/1.jmm.18.1.011007
DOI	10.1117/1.jmm.18.1.011007 doi
其它	期刊：Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology 作者：Hong Xu; Vasiliki Kosma; Kazunori Sakai; Emmanuel P. Giannelis; Christopher K. Ober 出版日期：2018-12-08
求助人	甜美半芹在 2026-10-26 14:43:15 发布自湖南，悬赏 20 积分
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