Evaluating the effects of thin film patterns on the temperature distribution of silican wafers during radiant processing

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标题	Evaluating the effects of thin film patterns on the temperature distribution of silican wafers during radiant processing
网址	https://www.spiedigitallibrary.org/journals/optical-engineer...
DOI	10.1117/1.1305525 doi
其它	期刊：Optical Engineering 作者：Haruna Tada; Alexis Abramson; Seth E. Mann; Ioannis N. Miaoulis; Peter Y. Wong 出版日期：2002-07-26
求助人	EV 在 2026-10-18 22:02:20 发布自上海，悬赏 20 积分
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