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 Infrared study of the structure of silicon oxynitride films produced by plasma enhanced chemical vapor deposition 等离子体增强化学气相沉积氧氮化硅薄膜结构的红外研究
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期刊：Journal of Non-Crystalline Solids 作者：I. P. Lisovskyy; M. Voitovych; Andrey Sarikov; S.O. Zlobin; Anatolii Lukianov; et al 出版日期：2023-07-14 |
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