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 Metalorganic chemical vapor deposition of aluminum oxide on Si: Evidence of interface SiO2 formation 氧化铝在Si上的金属有机化学气相沉积：界面SiO2形成的证据
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期刊：Applied Physics Letters 作者：A. Roy Chowdhuri; Christos G. Takoudis; Robert F. Klie; Nigel D. Browning 出版日期：2002-06-03 |
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