Assessment of Back‐End‐of‐Line Compatibility of Sputtered HfO2‐Based Ferroelectrics

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标题	Assessment of Back‐End‐of‐Line Compatibility of Sputtered HfO2‐Based Ferroelectrics 相关领域材料科学铁电性正交晶系溅射四方晶系退火（玻璃）单斜晶系分析化学（期刊）锡薄膜结晶学晶体结构光电子学电介质复合材料纳米技术冶金化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1002/pssr.202100572 AI链接 wiley.comdoi.org
DOI	10.1002/pssr.202100572 doi
其它	期刊：physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters 作者：Xuetao Wang; Thomas Mikolajick; Matthias Grube 出版日期：2022-01-18
求助人	阿木在 2026-01-09 20:00:10 发布自宁夏，悬赏 10 积分
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