| 标题 |
Inductively Coupled Pulsed Plasmas in the Presence of Synchronous Pulsed Substrate Bias for Robust, Reliable, and Fine Conductor Etching |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:IEEE Transactions on Plasma Science 作者:S. Banna; A. Agarwal; K. Tokashiki; Hong Cho; S. Rauf; et al 出版日期:2009 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)