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 Etch Rate Uniformity Monitoring for Photoresist Etch Using Multi-channel Optical Emission Spectroscopy and Scanning Floating Harmonic Probe in an Inductively Coupled Plasma Reactor 相关领域
腐蚀坑密度
光刻胶
分析化学（期刊）
感应耦合等离子体
蚀刻（微加工）
化学
等离子体刻蚀
离子
材料科学
等离子体
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色谱法
物理
量子力学
有机化学
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期刊：Plasma Chemistry and Plasma Processing 作者：Sang‐Hun Lee; Sang-Hee Han; Jaehyeon Kim; Minsung Jeon; Heeyeop Chae 出版日期：2024-08-18 |
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