Multi-trigger resist: novel synthesis improvements for high resolution EUV lithography

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标题	Multi-trigger resist: novel synthesis improvements for high resolution EUV lithography 相关领域极紫外光刻材料科学抵抗平版印刷术下一代光刻 X射线光刻光电子学极端紫外线光刻多重图案分辨率（逻辑）光刻胶干涉光刻
网址	https://doi.org/10.1117/12.2515084
DOI	10.1117/12.2515084 doi
其它	期刊：作者：Greg O'Callaghan; Carmen Popescu; Alex McClelland; Dimitrios Kazazis; John Roth; et al 出版日期：2019-03-25
求助人	酷炫念柏在 2025-10-25 17:14:09 发布自上海，悬赏 20 积分
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