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 Laminated Al2O3–HfO2 layers grown by atomic layer deposition for microelectronics applications 相关领域
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期刊：Thin Solid Films 作者：Raffaella Lo Nigro; Emanuela Schilirò; Giuseppe Greco; Patrick Fiorenza; Fabrizio Roccaforte 出版日期：2015-11-18 |
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