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Laminated Al2O3–HfO2 layers grown by atomic layer deposition for microelectronics applications

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作者

Raffaella Lo Nigro,Emanuela Schilirò,Giuseppe Greco,Patrick Fiorenza,Fabrizio Roccaforte

出处

期刊：Thin Solid Films [Elsevier BV]
日期：2015-11-18 卷期号：601: 68-72 被引量：18

标识

DOI：10.1016/j.tsf.2015.11.037

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