| 标题 |
  Impact of Nitridation on Bias Temperature Instability and Hard Breakdown Characteristics of SiON MOSFETs 氮化对SiON MOSFET偏置温度不稳定性和硬击穿特性的影响
相关领域
负偏压温度不稳定性
材料科学
氮气
威布尔分布
MOSFET
场效应晶体管
晶体管
光电子学
不稳定性
可靠性（半导体）
分析化学（期刊）
电气工程
化学
数学
工程类
物理
功率（物理）
统计
有机化学
电压
量子力学
色谱法
机械
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Micromachines 作者：Stanislav Tyaginov; Barry O’Sullivan; Adrian Chasin; Yaksh Rawal; T. Chiarella; et al 出版日期：2023-07-28 |
| 求助人 |
layjmoonw
在
2025-08-29 03:38:49 发布，悬赏 10 积分
|
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
WenyuChen
xjcy
不想干活
热心市民小红花
Meyako
爱静静
子车茗
Zoo
小青椒
8R60d8
核桃
xzy998
不配.
不安青牛
期待未来的自己
CAOHOU
null
一叶知秋
七月流火
MMMMM
皖公网安备34019202002308
