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  Impact of Nitridation on Bias Temperature Instability and Hard Breakdown Characteristics of SiON MOSFETs 氮化对SiON MOSFET偏置温度不稳定性和硬击穿特性的影响
相关领域
负偏压温度不稳定性
材料科学
氮气
威布尔分布
MOSFET
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晶体管
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期刊：Micromachines 作者：Stanislav Tyaginov; Barry O’Sullivan; Adrian Chasin; Yaksh Rawal; T. Chiarella; et al 出版日期：2023-07-28 |
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