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标题
Spectrometry studies of Ag implanted silicon carbide thin films for application as a diffusion barrier against transition metals
银注入碳化硅薄膜作为过渡金属扩散阻挡层的光谱研究
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卢瑟福背散射光谱法 退火(玻璃) 材料科学 分析化学(期刊) 薄膜 等温过程 扩散阻挡层 碳化硅 碳化物 扩散 冶金 化学 图层(电子) 复合材料 纳米技术 热力学 物理 色谱法
网址
DOI
10.1016/j.matpr.2020.03.310 doi
其它 期刊:Materials Today Proceedings
作者:Thandi Elinah Mazibuko; S. Halindintwali; Christopher J. Arendse; Siphelo Ngqoloda; O. Nemraoui; et al
出版日期:2020-04-06
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