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标题
Numerical study on the effects of inner crucible window heights on the growth of silicon in a continuous Czochralski process
内坩埚窗口高度对连续直拉法硅生长影响的数值研究
相关领域
坩埚（大地测量学） 微下拉 硅 材料科学 晶体生长 Crystal（编程语言） 增长率 矿物学 结晶学 冶金 化学 几何学 数学 计算机科学 计算化学 程序设计语言
网址
https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2023.127129
DOI
10.1016/j.jcrysgro.2023.127129 doi
其它 期刊：Journal of Crystal Growth
作者：Wenjia Su; Zhen Zhang; Jiulong Li; Zhicheng Guan; Jiaqi Li; et al
出版日期：2023-02-07
求助人
Lee 在 2025-08-17 11:23:16 发布自浙江，悬赏 10 积分
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