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Low-migration, deep photocuring thiobarbituric acid-based one-component visible photoinitiators for high-efficiency photopolymerization 用于高效光聚合的低迁移、深度光固化硫代巴比妥酸基单组分可见光引发剂
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期刊:Progress in Organic Coatings 作者:Jing Hou; Shang Gong; Xiang Wu; Miluo Huang; Tong Wei; et al 出版日期:2024-06-03 |
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