Polishing-pad-free electrochemical mechanical polishing of single-crystalline SiC surfaces using polyurethane–CeO2 core–shell particles

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标题	Polishing-pad-free electrochemical mechanical polishing of single-crystalline SiC surfaces using polyurethane–CeO2 core–shell particles 聚氨酯-CeO2核壳颗粒无抛光垫电化学机械抛光单晶SiC表面相关领域抛光材料科学复合材料化学机械平面化表面粗糙度薄脆饼磨料阳极氧化物聚氨酯纳米技术冶金电极化学物理化学
网址	https://doi.org/10.1016/j.ijmachtools.2016.11.007
DOI	10.1016/j.ijmachtools.2016.11.007 doi
其它	期刊：International Journal of Machine Tools and Manufacture 作者：Junji Murata; Koushi Yodogawa; Kazuma Ban 出版日期：2016-11-26
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