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Aluminum oxide as a dielectric and passivation layer for (flexible) metal-oxide and 2D semiconductor devices 相关领域
钝化
材料科学
半导体
光电子学
原子层沉积
电介质
兴奋剂
薄膜晶体管
单层
氧化物
图层(电子)
纳米技术
冶金
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| 其它 |
期刊: 作者:Alwin Daus; Connor J. McClellan; Kirstin Schauble; Júlio Costa; Ryan W. Grady; et al 出版日期:2021-03-03 |
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