| 标题 |
Permeation of oxygen and water into a plasma-enhanced chemical vapor deposited silicon nitride film as function of deposition pressure 相关领域
化学气相沉积
薄膜
材料科学
氮化硅
化学工程
渗透
X射线光电子能谱
硅
原子层沉积
等离子体增强化学气相沉积
离子镀
分析化学(期刊)
正电子湮没谱学
氧气
氧化硅
化学
纳米技术
光电子学
膜
色谱法
有机化学
电子
生物化学
量子力学
正电子湮没
工程类
正电子
物理
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者:Masayuki Shiochi; Hiroshi Fujimoto; Hin Wai Mo; Keiko Inoue; Yusaku Tanahashi; et al 出版日期:2023-10-31 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接,等待应助者上传 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|