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  Measurements of total ionizing dose effects in TPSCo 65 nm and influence of NMOS bulk bias TPSCO 65 nm总电离剂量效应的测量和NMOS体偏压的影响
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期刊：Journal of Instrumentation 作者：A. D. Martin; R. Ballabriga; Giulio Borghello; M. Campbell; W. Deng; et al 出版日期：2023-02-01 |
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