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Influence of Deposition Parameters on Structural and Electrochemical Properties of Ti/Ti2N Films Deposited by RF-Magnetron Sputtering
沉积参数对射频磁控溅射Ti/Ti2N薄膜结构和电化学性能的影响
相关领域
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网址
https://www.mdpi.com/2075-4701/12/8/1237/pdf?version=1658836...
AI链接 mdpi.com mdpi.com doaj.orgdoi.org
DOI
10.3390/met12081237 doi
其它 期刊：Metals
作者：Andrés González-Hernández; W. Aperador; M. Flores; E. Onofre-Bustamante; Juan E. Bermea; et al
出版日期：2022-07-22
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香蕉觅云 在 2025-07-10 08:10:44 发布，悬赏 10 积分
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