Growth Mechanism and Film Properties of Atomic-Layer-Deposited Titanium Oxysulfide

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标题	Growth Mechanism and Film Properties of Atomic-Layer-Deposited Titanium Oxysulfide 原子层沉积硫化钛的生长机理及薄膜性能相关领域原子层沉积钛椭圆偏振法铟锡沉积（地质）薄膜材料科学化学工程图层（电子）分析化学（期刊）化学纳米技术光电子学冶金环境化学工程类古生物学生物沉积物
网址	https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.2c01033
DOI	10.1021/acs.chemmater.2c01033 doi
其它	期刊：Chemistry of Materials 作者：Jeroen G. A. van Kasteren; Saravana Balaji Basuvalingam; Miika Mattinen; Andrea Bracesco; W. M. M. Kessels; et al 出版日期：2022-08-22
求助人	雷火神织在 2025-06-10 01:08:30 发布自河北，悬赏 10 积分
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