Emerging trends in the chemistry of polymeric resists for extreme ultraviolet lithography

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标题	Emerging trends in the chemistry of polymeric resists for extreme ultraviolet lithography 用于极紫外光刻的聚合物抗蚀剂化学的新兴趋势相关领域抵抗极紫外光刻极端紫外线平版印刷术纳米技术紫外线化学材料科学光学物理光电子学激光器图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1039/d4py00957f
DOI	10.1039/d4py00957f doi
其它	期刊：Polymer Chemistry 作者：Jie Cen; Zhengyu Deng; Shiyong Liu 出版日期：2024-01-01
求助人	青红造了个白在 2025-05-13 03:20:39 发布自广东，悬赏 10 积分
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