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Emerging trends in the chemistry of polymeric resists for extreme ultraviolet lithography
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作者
Jie Cen,
Zhengyu Deng,
Shiyong Liu
出处
期刊：
Polymer Chemistry
[Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
卷期号：15 (45): 4599-4614
被引量：26
链接
rsc.org
doi.org
标识
DOI：10.1039/d4py00957f
摘要
Patterning materials have advanced significantly to achieve high-resolution fabrication of integrated circuits for extreme ultraviolet (EUV) lithography. Emerging trends in the chemistry of polymeric resists for EUV lithography are summarized.
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