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 The Effect of Bias Stress on the Performance of Amorphous InAlZnO-Based Thin Film Transistors 相关领域
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期刊：Journal of Electronic Materials 作者：Mingyuan Liu; Fei Qin; Molly Rothschild; Yuxuan Zhang; Dong-Hun Lee; et al 出版日期：2022-02-06 |
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