Photosensitive polyimide with high pattern stability and low thermal expansion coefficient based on poly (amic acid) containing dual cross-linked groups

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标题	Photosensitive polyimide with high pattern stability and low thermal expansion coefficient based on poly (amic acid) containing dual cross-linked groups
网址	https://journals.sagepub.com/doi/pdf/10.1177/095400832513225...
DOI	10.1177/09540083251322534 doi
其它	期刊：High Performance Polymers 作者：Lei Zhou; Shengyu Chen; Chentao Fei; Yonggang Min 出版日期：2025-03-20
求助人	22 在 2026-07-06 17:05:28 发布自河南，悬赏 10 积分
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