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 Optimized plasma etch window of block copolymers and neutral brush layers for enhanced direct self-assembly pattern transfer into a hardmask layer 用于增强直接自组装图案转移到硬掩模层中的嵌段共聚物和中性刷层的优化等离子体蚀刻窗口
相关领域
蚀刻（微加工）
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等离子体刻蚀
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材料科学
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期刊： 作者：Nickolas L. Brakensiek; Kui Xu; Daniel P. Sweat; Mary Ann Hockey 出版日期：2018-03-20 |
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