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EUV resists based on tin-oxo clusters 基于tin-oxo簇的EUV抗蚀剂
相关领域
极紫外光刻
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期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者:Brian Cardineau; Ryan Del Re; Hashim Al-Mashat; Miles Wilklow‐Marnell; Michaela Vockenhuber; et al 出版日期:2014-04-04 |
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