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Plasmonic enhancement in deep ultraviolet photoresponse of hexagonal boron nitride thin films 六方氮化硼薄膜深紫外光响应的等离子体增强
相关领域
响应度
光电探测器
材料科学
光电子学
等离子体子
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化学气相沉积
纳米技术
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Xingrui Zhu; Le Chen; Xuemei Tang; Hongyan Wang; Yuhan Xiao; et al 出版日期:2022-02-28 |
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