| 标题 |
Effect of Deposition Rate on Structure and Surface Morphology of Thin Evaporated Al Films on Dielectrics and Semiconductors |
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| DOI |
10.5755/j01.ms.18.4.3088
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期刊:Materials Science 作者:Kirill BORDO; Horst-Günter RUBAHN 出版日期:2012-12-13 |
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(2025-6-4)