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Fluorocarbon (C4F8) assisted plasma-enhanced atomic layer etching of SiO2 with high repeatability of cycles in industrial ICP reactor. II. Simulation |
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A 作者:Olga Proshina; A. Kropotkin; Dmitry Voloshin; T. Rakhimova; A. Rakhimov 出版日期:2026-02-25 |
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