Negative tone i-line photoresist with controlled undercut profile designed for metal deposition to form metal interconnects

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标题	Negative tone i-line photoresist with controlled undercut profile designed for metal deposition to form metal interconnects
网址	https://doi.org/10.1117/12.3009919
DOI	10.1117/12.3009919 doi
其它	期刊：Advances in Patterning Materials and Processes XLI 作者：Anupama Mukherjee; Medhat Toukhy; Ping-Hung Lu; Chunwei Chen; Tomotsugu Yano; et al 出版日期：2024
求助人	Wdj821722 在 2026-04-08 14:55:20 发布自北京，悬赏 20 积分
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