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 A reaction-transport model of GaAs growth by metalorganic chemical vapor deposition using trimethyl-gallium and tertiary-butyl-arsine 三甲基镓和叔丁基胂金属有机化学气相沉积生长GaAs的反应输运模型
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期刊：Journal of Crystal Growth 作者：T. J. Mountziaris; Shankar Kalyanasundaram; N.K. Ingle 出版日期：1993-08-01 |
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