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EFFECT OF INTERELECTRODE SPACE ON PROPERTIES OF SIH4/H2 DEPOSITION DISCHARGES OPERATING AT DIFFERENT RADIO FREQUENCIES 相关领域
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期刊:High Temperature Material Processes An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes 作者:E. Amanatides; D. Mataras; D. Rapakoulias 出版日期:2011-01-01 |
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