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标题
Ion motion above a biased wafer in a plasma etching reactor
等离子体刻蚀反应器中偏压晶片上方的离子运动
相关领域
物理 等离子体 薄脆饼 离子 蚀刻（微加工） 原子物理学 等离子体刻蚀 反应离子刻蚀 光电子学 核物理学 纳米技术 材料科学 图层（电子） 量子力学
网址
https://doi.org/10.1063/5.0206860
DOI
10.1063/5.0206860 doi
其它 期刊：Physics of Plasmas
作者：Yuchen Qian; Walter Gekelman; Patrick Pribyl; Tugba Piskin; Alex Paterson
出版日期：2024-06-01
求助人
含糊的雨安 在 2025-05-22 08:46:53 发布自上海，悬赏 10 积分
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