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标题
Recent Advances in Plasma Etching for Micro and Nano Fabrications of Silicon-based Materials: A Review
等离子体刻蚀在硅基材料微纳制备中的研究进展
相关领域
材料科学 等离子体刻蚀 纳米- 纳米技术 蚀刻（微加工） 硅 等离子体 工程物理 光电子学 复合材料 工程类 核物理学 图层（电子） 物理
网址
https://doi.org/10.1039/d4tc00612g
DOI
10.1039/d4tc00612g doi
其它 期刊：Journal of Materials Chemistry C
作者：Chaojiang Li; Yuxin Yang; R.T. Qu; Xun Cao; Ye Liu; et al
出版日期：2024-01-01
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钟123 在 2025-05-21 13:53:52 发布自上海，悬赏 10 积分
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