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Recent advances in plasma etching for micro and nano fabrication of silicon-based materials: a review
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作者
Chaojiang Li,
Yuxin Yang,
Rui Qu,
Xun Cao,
Ye Liu,
Xin Jin,
Sheng-Gui Liu,
Jiang Wang,
Xianchao Zhang,
Yuxuan Liu
出处
期刊：
Journal of Materials Chemistry C
[The Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
卷期号：12 (45): 18211-18237
被引量：18
标识
DOI：10.1039/d4tc00612g
摘要
This review provides the mechanism, simulation, chemistries and processes employed in the plasma etching of silicon-based materials. Current applications and research prospects in plasma etching for micro and nanofabrication are discussed.
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