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 Effect of HF Pressure on Thermal Al2O3Atomic Layer Etch Rates and Al2O3Fluorination HF压力对Al2O3原子层热刻蚀速率和Al2O3氟化的影响
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期刊：The Journal of Physical Chemistry C 作者：Austin M. Cano; Amy E. Marquardt; Jaime W. DuMont; Steven M. George 出版日期：2019-03-28 |
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